日經新聞8日訊，去年日本專利申請件數同比下降4%，為32萬件，位列中國、美國之后。而中國申請件數同比增26%，為82萬件，是日本的2.5倍，中日兩國差距逐漸拉大。

日本專利申請書在05年為42萬件，居全球之首。但06年被美國超越，10年被中國超越，淪落第三。

專利申請件數是反映該國市場魅力的一面鏡子。日本專利申請持續低迷的原因有，一是因人口減少和專利審查嚴格，國外企業感受不到在日本申請專利的好處。二是日本國內研究經費不足。

如果這種局面持續，將導致技術創新不足、經濟增長緩慢和研究經費進一步被削減的惡性循環。

專利有效期為從申請之日起20年，如果申請時間長，那么專利使用權就會變短。現在日本專利申請期平均為2年5個月，而中國和韓國則為1年10個月，這導致大企業在日研究和申請專利意愿降低。

日本專利管理部門計劃在2023年將專利申請期縮短至1年2個月，速度是現在的2倍，為世界最快。

（大阪經商室）